新任教官紹介（高橋哲）

• 氏名：高橋　哲
• 所属：精密機械工学専攻
• 官職：助教授
• 発令年月日：2003年1月1日

主要業務，主要担当科目（学部，大学院）

• 所属学科・専攻での教育・研究
  
  

•  光工学（学部3年）
•  ナノメートル計測学（学部4年）
  

最終学歴

• 卒業・終了等の年月：1996年3月
• 学校・学科又は課程：大阪大学大学院工学研究科機械システム工学専攻博士後期課程（退学）
  
  

前任職

• 大阪大学大学院工学研究科講師

学位（および取得年）

• 取得年月：2002年7月
• 大学名学位：大阪大学大学院工学研究科博士(工学)

主な研究分野

• 超精密光測定
• ナノメートル計測
•  光応用微細加工
  

主要研究論文，著書または業績（10編以内）

• 三好隆志，高谷裕浩，木下浩一，高橋哲，永田貴之
  光逆散乱位相法による微細加工形状計測に関する研究−周期微細溝形状の位相回復−
  精密工学会誌，62，7（1996）958-963
• Satoru TAKAHASHI, Takashi MIYOSHI, Yasuhiro TAKAYA, and Katsumasa SAITO
  In-process Measurement Method for Detection and Discrimination of Silicon Wafer Surface Defects by Laser Scattered Defect Pattern
  CIRP ANNALS, 47, 1（1998）459-462
• Yasuhiro TAKAYA, Satoru TAKAHASHI, Takashi MIYOSHI and Katsumasa SAITO
  Development of The Nano-CMM Probe based on Laser Trapping Technology
  CIRP ANNALS, 48, 1（1999）421-424
• 高橋哲，三好隆志，高谷裕浩，立野泰史，平田文彦，剱持妥茂哉
  光散乱パターンを用いたシリコンウェハ加工表面欠陥のインプロセス計測に関する研究（第１報）−微小付着異物の光散乱パターン特性解析−
  精密工学会誌，65，9（1999）1284-1289
• 清水浩貴，三好隆志， 高谷裕浩， 高橋哲
  光放射圧を利用した微粒子操作によるマイクロ加工に関する基礎的研究
  精密工学会誌，66，6（2000）901-906
• 高谷裕浩，佐藤憲章，高橋哲，三好隆志，清水浩貴，渡辺万次郎
  ナノCMMレーザトラッピングプローブに関する研究（第１報）−３次元位置検出の基本原理−
  精密工学会誌，66，7（2000）1081-1086
• Atsushi TAGUCHI, Takashi MIYOSHI, Yasuhiro TAKAYA, Satoru TAKAHASHI, and Katsumasa SAITO
  3D Micro-Profile Measurement using Optical Inverse Scattering Phase Method
  CIRP ANNALS, 49, 1（2000）423-426
• 林照剛，三好隆志，高谷裕浩，高橋哲
  液晶マスクを用いた非積層マイクロ光造形法に関する研究（第１報）−濃淡画像による非積層造形−
  精密工学会誌，67，4（2001）628-632
• Takashi MIYOSHI, Satoru TAKAHASHI, Yasuhiro TAKAYA, and Shoichi SHIMADA
  High Sensitivity Optical Detection of Oriented Micro defects on Silicon Wafer Surfaces Using Annular Illumination
  CIRP ANNALS, 50, 1（2001）389-392
• 高橋哲，三好隆志，高谷裕浩，立野泰史
  光散乱パターンを用いたシリコンウエハ加工表面欠陥のインプロセス計測に関する研究（第２報）−高速欠陥計測法の提案−
  精密工学会誌，68，7（2002）962-966

受賞

• 1997年3月　第19回精密工学会賞
• 1999年3月　第22回精密工学会賞
• 2000年3月　第51回精密工学会論文賞
• 2001年6月　第11回型技術者会議2000奨励賞

採用理由